CYTUVA

Estudio de nuevos materiales para la fabricación de circuitos integrados

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Datos de Contacto

Helena Castán Lanaspa
Campus Miguel Delibes, Paseo Belén, 15
Valladolid, Valladolid (47011) - 1D049
Enviar email
983423664
983423675
http://gcme.ele.uva.es/

Información básica

UniversidadUniversidad de Valladolid
CentroEscuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación
DepartamentoElectricidad y Electrónica
Grupo de investigaciónGrupo de Caracterización de Materiales y dispositivos Electrónicos (GCME)

Descripción

Caracterización mediante técnicas originales del GIR de los materiales denominados “dieléctricos de alta permitividad”.

Algunos trabajos realizados en esta línea de trabajo se enumeran a continuación:

“Caracterización eléctrica de estructuras MIS y MIM con dielectricos de alta permitividad para su aplicación en RRAMS y memresistors” (2015 - 2017), proyecto financiado por la Dirección General de Investigación Científica y Técnica del Ministerio de Economía y Competitividad.
“Fabricación y caracterización de capas de dieléctricos de alta permitividad depositadas por ALD sobre silicio y sobre grafeno” (2012-2015), proyecto financiado por el Ministerio de Ciencia e Innovación.
‘Caracterización Eléctrica de Dieléctricos de Alta Permitividad depositados por ALD’ (2009-2011), proyecto financiado por el Ministerio de Ciencia e Innovación.

Otra Información

Número de investigadores:

Estado de desarrollo:

En fase de investigación y desarrollo

Derechos de propiedad intelectual:

Susceptible de patente

Diferenciación en el mercado:

Novedad

Aplicabilidad de la tecnología:

Sí

Empresas y mercados:

Fabricantes de circuitos integrados

Ventajas:

Los dieléctricos de alta permitividad son novedosos materiales que se compor¬tan como aislantes adecuados para la fabricación de los circuitos integrados, mejorando sus prestaciones y disminuyendo su tamaño. Contribuirán, por tanto, a la obtención de dispositivos y sistemas electrónicos más rápidos, pequeños y ligeros.

Información adicional:

Colabora activamente con los siguientes grupos investigadores:

Instituto de Microelectrónica de Barcelona - Centro Nacional de Microelectrónica – CSIC
Universidad de Helsinki (Finlandia)
Centro Finlandés Excelencia ‘Deposición de capas atómicas (ALD)’
Universidad de Tartu (Estonia)
Universidad Complutense de Madrid
Universidad Autónoma de Barcelona
Universidad de Granada

Código UNESCO:

3307 - Tecnología electrónica

Otros miembros:

Salvador Dueñas Carazo
Héctor García García
Ver más

César Vaca Rodríguez
Óscar González Ossorio

Fotos

Vídeos

Otros recursos

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